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電鏡等離子清洗機幾種頻率區別與運用

更新時間:2024-04-24       點擊次數:1645
  電鏡等離子清洗機的頻率有40KHZ,13.56MHz,2.45GHz這幾種。采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。
 
  低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個至幾十電子伏特,大于聚合物材料的結合鍵能(幾個至十幾電子伏特),可以破裂有機大分子的化學鍵而形成新鍵;但遠低于高能放射性射線,只涉及材料表面,不影響基體的性能。處于非熱力學平衡狀態下的低溫等離子體中,電子具有較高的能量,可以斷裂材料表面分子的化學鍵,提高粒子的化學反應活性(大于熱等離子體),而中性粒子的溫度接近室溫,這些優點為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。
 
  等離子體裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發生碰撞而形成等離子體,這時會發出輝光,故稱為輝光放電處理。輝光放電時的氣壓大小對材料處理效果有很大影響,另外與放電功率,氣體成分及流動速度、材料類型等因素有關。
 
  電鏡等離子清洗機不同的放電方式、工作物質狀態及上述影響等離子體產生的因素,相互組合可形成各種低溫等離子體處理設備。低溫等離子體技術具有工藝簡單、操作方便、加工速度快、處理效果好、環境污染小、節能等優點,在表面改性中廣泛的應用。
電鏡等離子清洗機
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