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勻膠旋涂?jī)x通過高速旋轉(zhuǎn)基片，利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展，形成納米至微米級(jí)厚度的薄膜。勻膠旋涂?jī)x的構(gòu)成：1、旋轉(zhuǎn)平臺(tái)：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或機(jī)械夾持固定基底，材質(zhì)多為耐腐蝕金屬或陶瓷。2、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)：由高精度電機(jī)驅(qū)...

紫外臭氧清洗機(jī)憑借其在清潔、環(huán)保節(jié)能、安全可靠等多方面的優(yōu)勢(shì)，在現(xiàn)代工業(yè)及科研等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展與完善，其應(yīng)用范圍還將持續(xù)拓展，為各行業(yè)的表面處理提供解決方案，助力推動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)向更高質(zhì)量、更可持續(xù)方向發(fā)展。紫外臭氧清洗...

烤膠機(jī)是一種是一種設(shè)計(jì)為準(zhǔn)確控溫、準(zhǔn)確計(jì)時(shí)、高熱均勻性的高性能實(shí)驗(yàn)室設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)定時(shí)控溫烤膠操作，主要用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化。烤膠機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域：1、半導(dǎo)體制造：用于前烘、堅(jiān)膜...

等離子去膠機(jī)是一種利用低溫等離子體技術(shù)去除半導(dǎo)體、微電子、光電等領(lǐng)域中光刻膠殘留的設(shè)備，其原理基于等離子體的物理和化學(xué)作用，能夠高效、環(huán)保地去除有機(jī)污染物，廣泛應(yīng)用于芯片制造、封裝測(cè)試等工藝環(huán)節(jié)。氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過射頻(RF)電源...

在芯片制造、傳感器開發(fā)或微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)生產(chǎn)中，材料的微米甚至納米級(jí)加工是決定產(chǎn)品性能的關(guān)鍵。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)傳感器表面的微結(jié)構(gòu)需要準(zhǔn)確到微米級(jí)厚度，它通過物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)的協(xié)同作用，成為半導(dǎo)體和微納制造領(lǐng)域的核心技術(shù)工具。RI...

等離子表面處理儀是一種在材料表面改性領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用的設(shè)備，它利用等離子體這一特殊的物質(zhì)形態(tài)，對(duì)材料表面進(jìn)行準(zhǔn)確的處理，從而改善材料的表面性能，滿足不同行業(yè)對(duì)材料性能的多樣化需求。等離子體是一種由帶電粒子(如離子、電子)和中性粒子(如原子...

RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進(jìn)行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。RIE反...

紫外臭氧清洗機(jī)的工作原理基于紫外線(UV)與臭氧(O2)的協(xié)同作用。紫外線照射能夠激發(fā)空氣中的氧氣分子(O2)，使其分解為氧原子(O)，隨后這些氧原子與周圍的氧氣分子結(jié)合，生成臭氧。臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，能夠迅速與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生化...